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铝抛光技术专题,化学抛光工艺,抛光机,电解抛光处理类技术资料

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  [HT8878-0041-0001] 砂布带式抛光机
[摘要] 一种砂布带式抛光机，专门抛削各种五金工具和日用五金制品的凹凸表面，以及锤类木柄和小型木制品表面，该机主要由装在惰轮（１４）和铝芯橡胶轮（１１）上的砂布带（１３）完成抛削任务，并在该机上设有吸尘总成（１７），该机的设计成功，一举改变了传统砂布轮的抛削工艺，是老式砂布轮式抛光机的重大突破，按本实用新型设计主题所制造的砂布带式抛光机，可大大降低工人的劳动强度，且消除了环境污染，改善了工作环境，同时有效地提高了产品质量。
  [HT8878-0067-0002] 计算机硬盘基片抛光速率的控制方法
[摘要] 本发明公开了一种计算机硬盘基片抛光速率的控制方法。包括以下步骤，其中原料为重量％：将粒径20～60nm的SiO₂溶胶用去离子水稀释，去离子水含量5～50％；边搅拌边加入1～10％的醇醚类表面活性剂、1～10％的 FA/O螯合剂；用pH调节剂使pH值在11.5～13.5范围内；加入10～25ml 的氧化剂；使用上述抛光液在40～60℃温度、40～120rpm转速、0.1～ 0.2MPa、200～800ml/min流量的抛光工艺条件下，在抛光机上对基片进行抛光8～10min。本发明用于提高存储器硬盘的磁盘基片的去除速率，使用碱性抛光液同时解决现有的以三氧化二铝为磨料的酸性抛光液的所存在的高损伤和凸凹选择比差问题。
  [HT8878-0008-0003] 用于化学机械抛光的研磨垫

公开了一种具有底材(12)和置于其上的研磨层的化学机械抛光用研磨垫。一种研磨垫，它具有底材和置于该底材上的研磨层，所述研磨层具有三维结构，该三维结构包括许多个规则排列的具有预定形状的三维元件(11)，所述研磨层包含研磨复合物，该复合物含有用化学气相淀积方法制得的高级氧化铝磨粒和粘合剂作为结构组分。
  [HT8878-0068-0004] 超大规模集成电路铝布线抛光液
[摘要] 本发明公开了一种化学作用强、去除速率快、无污染、无划伤、易清洗且成本低的超大规模集成电路多懵敛枷呒钚耘坠庖骸Ｅ坠庖撼煞趾椭?量％比组成如下：pH值调节剂1-10、硅溶胶10-90、表面活性剂0.5-5、氧化剂0.5-5、去离子水为余量。本发明为碱性条件下强络合、强化学作用的方法，在压力一致的情况下，表面各处化学反应和研磨速率一致性好，同时选用高浓度小粒径SiO₂溶胶作为抛光液磨料，解决了Al₂O₃磨料硬度大易划伤、易沉淀等诸多弊端，加入醚醇类活性剂，加速铝线表面反应物和生成物的质量传递，现了高速率，低粗糙，低成本。
  [HT8878-0023-0005] 抛光组合物
[摘要] 本发明公开了一种用于抛光存储器硬盘的抛光组合物，包含以下组分（ａ）至（ｄ）：（ａ）以抛光组合物总量计的０．１—５０％（重量）的至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅、二氧化锰，（ｂ）以抛光组合物总量计的０．０００１—３．０％（重量）的至少一种抛光减阻剂，选自表面活性剂、水溶性聚合物和聚电解质，（ｃ）以抛光组合物总量计的０．００１—４０％（重量）的至少一种抛光促进剂，选自无机酸、有机酸，以及它们的铝、铁、镍和钴盐，（ｄ）水。
  [HT8878-0014-0006] 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法
[摘要] 铝及铝合金焊丝的电化学抛光方法，抛光液以磷酸为基，加入缓蚀剂和活化剂。本方法无毒、温度低、再生容易。经本方法处理的焊丝各项指标与美国、加拿大、意大利等国的焊丝表面质量一致，达到国际水平，三年内均可保持同等光亮程度，厂家可直接使用，并得到高质量的焊缝，免除了各厂家原设立的脱脂、清洗等项工序和专门的清洗车间，适应高质量和高效率的生产需要。
  [HT8878-0042-0007] 一种调速抛光机
[摘要] 本实用新型属于对型材表面进行抛光的一种设备。$本实用新型由抛光轮传动机构、抛光轮往复机构、抛光轮升降机构及工件进给机构组成。本实用新型采用变频调速，能有效控制抛光轮转速和工件进给速度；采用减速装置、偏心轮拉杆及滑动架等，保证了对型材有效抛光。$本实用新型结构简单、易于操作、制造成本低，使用它既减轻工人劳动强度又改善了工人劳动条件。可以广泛用于铝型材、钢材、铜材、有色金属及其它非金属表面抛光。
  [HT8878-0036-0008] 用于存储器硬盘磁头表面抛光的抛光组合物及其抛光方法
[摘要] 本发明属于表面抛光处理技术领域，涉及一种用于存储器硬盘磁头抛光的抛光组合物及其抛光方法，该抛光组合物至少包括以下组分：选自纳米量级的金刚石、二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰中的一种磨料或多种磨料的组合，占总重量的0.01～50％；烷烃的矿物油或合成油，占总重量的50～99.99％；缓冲组分，占总重量的0～50％，组合物的pH值为6～8。将该抛光组合物喷洒在抛光设备的金属或非金属研磨盘上后，使用电阻导向研磨机或原理类似的抛光设备直接对存储器硬盘的未进行表面加工处理的磁头表面进行最终或中间抛光。还可用于对表面粗糙度要求达到亚纳米量级的金属或非金属表面进行中间或最终抛光。
  [HT8878-0071-0009] 抛光机后铝轮的结构改良
[摘要] 本实用新型涉及抛光机械设备技术领域，尤其是涉及抛光机后铝轮的结构改良。本实用新型提供的抛光机后铝轮结构改良，主要包括后铝轮和轴，后铝轮中心安装有轴承，轴与后铝轮的轴承安装在一起，轴的另一端固定安装在两铰接板的一个板上，另一板上固定安装有另一轴，在两板间设有调节两铰接板的铰接角度的调节装置。所述的调节装置由调节螺柱和调节手柄组成。采用上述结构的后铝轮，当受力较大发生偏移，可直接通过调节手柄来校正后铝轮，这样整个调节过程操作方便，校正的效果较佳，安全可靠。
  [HT8878-0047-0010] 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法
[摘要] 本发明涉及一种核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法，属表面抛光加工技术领域。本发明的抛光液，包含研磨剂、氧化剂和水，其特征在于该抛光液组合物中所采用的研磨剂为核/壳型纳米复合粒子研磨剂，即以传统的研磨剂如超细氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈、氧化钛、氧化铁、金刚石、或氮化硅中的任一种为内核，以亲水性高分子链段化合物或含有极性有机官能团化合物为外壳的研磨剂。本发明的抛光液适用于存储器硬盘基片或铝磁盘的化学机械抛光，其优点是可以降低表面的粗糙度(Ra)、波纹度(Wa)，并有效减轻抛光加工对硬盘基片表面的机械损伤，从而显著消除划痕、凹坑等表面微观缺陷。
  [HT8878-0061-0011] 铝材抛光打花机
  [HT8878-0072-0012] 抛光头行走型抛光机
  [HT8878-0063-0013] 一种超白抛光砖及其制作工艺
  [HT8878-0004-0014] 抛光组合物及使用它的抛光方法
  [HT8878-0050-0015] 可结晶玻璃及其在制备具有优良可抛光表面的耐断裂高刚性玻璃陶瓷中的应用
  [HT8878-0051-0016] 化学抛光液

  [HT8878-0007-0017] 抛光液组合物
  [HT8878-0010-0018] 一种快速抛光剂
  [HT8878-0024-0019] 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
  [HT8878-0057-0020] 能降低NO2烟害的铝材二步化学抛光法
  [HT8878-0029-0021] 抛光组合物
  [HT8878-0075-0022] 抛光机后铝轮的调节校正结构
  [HT8878-0019-0023] 铝或铝合金导电材料层的机械化学抛光方法
  [HT8878-0066-0024] 抛光用组合物及抛光方法
  [HT8878-0077-0025] 便捷抛光清洁棉
  [HT8878-0028-0026] 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
  [HT8878-0038-0027] 火焰抛光机
  [HT8878-0025-0028] 光学抛光制剂
  [HT8878-0070-0029] 防静电抛光砖
  [HT8878-0060-0030] 铝化学机械抛光和保护层的方法与结构
  [HT8878-0059-0031] 铝化学机械抛光的方法与结构
  [HT8878-0056-0032] 铝酸锂晶片的抛光方法
  [HT8878-0069-0033] 抛光浆料
  [HT8878-0043-0034] 抛光板
  [HT8878-0033-0035] 含氢氟酸的铝型材酸性抛光剂
  [HT8878-0044-0036] 衬塑抛光电泳仿不锈钢铝合金管材

  [HT8878-0013-0037] 高效抛光磨刷石及其制备工艺
  [HT8878-0052-0038] 抛光组合物的用途和抛光存储器硬盘的方法
  [HT8878-0030-0039] 铝型材抛光液无能耗简易回收法
  [HT8878-0053-0040] 铝材抛光机
  [HT8878-0058-0041] 抛光组合物和抛光方法
  [HT8878-0064-0042] 用于化学-机械抛光的分散体
资[HT8878-0046-0043] 抛光组合物和抛光方法
料[HT8878-0011-0044] 铝及铝合金碱性化学抛光溶液
来[HT8878-0049-0045] 抛光组合物及抛光方法
源[HT8878-0020-0046] 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂
：[HT8878-0002-0047] 能高精度地控制抛光时间的抛光方法和抛光装置
  [HT8878-0074-0048] 铝材抛光打花机
宏[HT8878-0045-0049] 汽车铝合金轮毂磨光、抛光工艺
图[HT8878-0006-0050] 抛光剂组合物
技[HT8878-0073-0051] 抛光机之抛光轮
术[HT8878-0048-0052] 用于在含有硫酸和氢氟酸的抛光浴中抛光玻璃制品时减少和控制形成的六氟硅酸根的方法
信[HT8878-0003-0053] 磁盘基材的抛光组合物和使用该组合物的抛光方法
息[HT8878-0016-0054] 改进的抛光浆料和其使用方法
网[HT8878-0062-0055] 用于硅上液晶器件的铝化学机械抛光回蚀
  [HT8878-0055-0056] 抛光组合物

W [HT8878-0034-0057] 抛光组合物及用该抛光组合物抛光后的磁记录盘基片
W [HT8878-0021-0058] 抛光组合物
W [HT8878-0065-0059] 环保型镁配合物和辣椒碱自抛光防污涂料
. [HT8878-0018-0060] 抛光组合物
H [HT8878-0031-0061] 制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法
O [HT8878-0037-0062] 一种耐磨陶瓷抛光线传动底板
N [HT8878-0015-0063] 抛光组合物
G [HT8878-0035-0064] 抛光组合物及使用它的抛光方法
T [HT8878-0022-0065] 抛光组合物
U [HT8878-0026-0066] 用于抛光磁记录盘基体的磨料组合物
1 [HT8878-0076-0067] 抛光机用切削轮
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. [HT8878-0017-0070] 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料
C [HT8878-0054-0071] 抛光组合物
O [HT8878-0040-0072] 去污抛光擦
M [HT8878-0005-0073] 抛光组合物
[HT8878-0012-0074] 抛光液
联[HT8878-0001-0075] 铝电解抛光的方法和其应用
系[HT8878-0009-0076] 反转电流法的铝材电解抛光

电[HT8878-0027-0077] 混合抛光膏剂
话[HT8878-0078-0078] 橡胶抛光轮
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