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[HT708-0119-0001] 在栅极蚀刻处理后用湿式化学方法去除氧氮化硅材料 [摘要] 提出一种用于形成晶体管栅极结构(41,42)的方法。形成栅极氧化物层。在栅极氧化物层(41)上淀积栅极材料(42)。在栅极材料(42)上淀积氧氮化硅层(43)。蚀刻氧氮化硅层(43)、栅极材料(42)以及栅极氧化物层(41)以形成栅极结构(41,42)。在栅极结构(41,42)的顶部留有氧氮化硅区(43)。进行湿式化学处理以从栅极结构(41,42)的顶部去掉氧氮化硅区(43)。在完成湿式化学处理之后,在栅极结构(41,42)周围形成隔离物(61,62)。
[HT708-0170-0002] 微型显示器的间隙柱组成方法 [摘要] 一种微型显示器的间隙柱组成方法,用于反射式的红绿蓝三原色微型显示器的间隔柱组成,其中,在于所述红绿蓝三原色微型显示器各别构成的晶片表面镀上一层透明非导电材料层,通过光罩预先安排各红绿蓝微型显示器的间隔柱形成位置,使红绿蓝三原色中的各微型显示器的间隔柱成形位置相互错开不重叠,并利用光蚀刻工艺分别除去透明非导电材料层上非间隔柱安排位置的部份,而在非像素间区内形成若干以非导电材料所组成的间隔柱,使红绿蓝三原色的微型显示器的间隔柱组成位置相互错开不重叠,以确保微型显示器的间隙高度均一性,并使红绿蓝微型显示器作重叠投射时不会产生黑点或光点。
[HT708-0072-0003] 微型显示器像素单元及其制作方法 |