一种电子束蒸发镀膜膜厚均匀性的修正方法，即修正挡板的设计方 法，包括下列步骤： 第一步：根据真空室的实际配置情况，写出r，cosθ，cosφ的表达式； 第二步：绘制理论膜厚分布曲线； 第三步：实验确定实际膜料的蒸发特性n； 第四步：确定修正挡板的位置； 第五步：设计修正挡板的形状。经实验表明：本发明方法可以快速 准确地设计出修正挡板，可大大提高光学薄膜厚度均匀性。
  [HT10056-0041-0004] 电容器用高压金属化聚脂膜镀膜机
[摘要] 本实用新型是一种镀膜设备，特别是一种用于镀制高压电容器用金属化聚酯膜的真空镀膜机。它由真空系统及镀膜室组成，其特征是镀膜室中水冷辊两端带有齿，啮和一条同步齿形带，同步齿形带上每隔一段距离装有一个挡块。本实用新型将间隔膜生产工艺中的两道工序简化为一次完成，不仅缩短了工艺周期，而且降低了生产成本，同时本实用新型只是在原有设备的基础上稍作改动而实现的，所以设备结构简单，投资非常小。
  [HT10056-0201-0005] 真空镀膜涂料
[摘要] 本发明提供一种真空镀膜涂料，其原料的重量百分比为：植物油 20～28％；多元醇1～10％；酸酐0～5％；松香酯12～35％；丙烯酸类共 聚物1～5％；多羟基聚合物0.1～3％；改性聚烯烃0～5％；异氰酸酯2～ 4.5％；混合溶剂35～60％。通过醇解、酯化、加成、氨酯化等反应而 制成。本发明适合塑料真空镀膜，主要性能符合真空镀膜的全过程， 既可作为底层涂料，又可作为镀层的保护涂料；涂料稳定性好，不易 析出；可以在高温高湿度等恶劣条件下施工；适应范围广，可应用于 包括聚烯烃在内的各种塑料及其回收料，不需表面处理即可直接涂装； 其施工方式既可采用浸涂方法，又可采用喷涂方法，以提高涂层质量， 提高产品档次。
  [HT10056-0189-0006] 真空镀膜机用多路阀
[摘要] 本实用新型涉及一种双室真空镀膜机用多路阀。目前，真空镀膜多采用由一个扩散泵和一个三通歧管相连接，然后由两个高真空阀分别接到歧管法兰上，再由两个高真空阀分别接到两个真空室上，这个结构要有三个部件才能完成，常常使两个真空室分开得较远。本实用新型的阀体分为两层，一层为二个独立的高真空阀室，另一层为一三通歧管。把双真空室与精抽泵、粗抽泵之间实现了完整的连接，替代了过去常用的一个三通歧管和两个高真空阀的组合，使得双室镀膜机结构更紧凑，成本更低。
  [HT10056-0164-0007] 多层膜结构镀膜玻璃及生产方法
[摘要] 多层膜结构镀膜玻璃及生产方法是一种用于汽车玻璃、建筑玻璃和观察窗玻璃的多层膜结构镀膜玻璃及生产方法，该镀膜玻璃的层状结构为：基底为玻璃，在玻璃的表面镀有In₂O₃:Sn层，在In₂O₃:Sn层上镀有二氧化钛层，或在玻璃的表面先镀有过渡层，各膜层厚度分别为：In₂O₃:Sn层的膜层厚度为10～400纳米，二氧化钛层的膜层厚度为1～420纳米，过渡层SiO₂厚度为小于30纳米；生产的方法为：对玻璃基片进行清洗、干燥后，把玻璃基片放入真空室抽真空，背底真空小于3.6×10^-3Pa；采用磁控溅射镀制方法镀制过渡层、In₂O₃:Sn层、二氧化钛层；磁控溅射镀膜时玻璃基片的温度在180℃～400℃。该镀膜玻璃具有反射红外线、通电除霜及光催化降解有机污染物三重功能。
  [HT10056-0032-0008] 真空镀膜机移动靶装置
[摘要] 本实用新型涉及真空镀膜机移动靶装置，包括沿导轨移动吊装磁控靶的移动装置，柔性冷却管和电缆，滑轮组，冷却管和电缆输入端子，无级变速装置及磁控靶，具有镀膜室比较小，移动靶装置结构简单，易于控制，被镀工件镀膜均匀等特点，提高了生产效率，降低了制造成本。
  [HT10056-0020-0009] 双真空室镀膜设备
[摘要] 一种双真空室镀膜设备，属于一种镀覆设备。该设备用同一真空抽气系统及电控设备。配有两个真空镀膜室，为此在电控系统的操作台上装有切换开关，在真空抽气系统中增加一套阀门，以实现对两个真空镀膜室进行切换，使一个真空室在镀膜，另一个真空室在装卸被镀件或清理，交替工作。从而大大提高了设备工时利用率，而且比多台设备降低了制作成本及减少占地面积。
  [HT10056-0014-0010] 一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
[摘要] 本实用新型涉及一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置，它由密闭在真空容器内的两个圆柱型磁控溅射阴极；设在两个阴极之间的挡板，可加负偏压电的夹具和电器控制系统组成。这种镀膜装置具有二十来种适合不同镀膜工艺的自动控制功能，可以溅射镀，也可以离子镀，在一个镀膜周期内可以镀单一金属成分的膜，也可以镀多层结构不同金属成分的膜。因此，可用于多变的实际生产，又可用来开发研究多层结构的新型膜，使装置的功能及使用效率都大有提高。
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