本发明提供一种化学置换镀金溶液，其包含水溶性金化合物、络合剂、和水溶性银化合物、以及任选的水溶性铊化合物、水溶性铅化合物、水溶性铜化合物或水溶性镍化合物、或其任意的组合；一种用于制备该电镀液的添加剂；和通过用该电镀液进行处理得到的金属复合材料。该电镀液具有良好的稳定性，因此甚至不仅在制备后立即使用时，而且在制备后放置一定时间后也可用于制备显示出均匀电镀外观，同时也具有厚金涂层膜的金属复合材料。
  [HT5760-0168-0004] 在聚合物表面镀金属膜的方法
[摘要] 本发明涉及一种在聚合物材料表面镀金属膜的方法，它首先利用等离子体处理聚合物表面，以导入亲水性官能团，然后利用无电镀法在聚合物材料表面镀金属膜。其中上述方法的特征在于冷等离子体处理将聚合物材料与水的接触角降低5至60°。此外，在上述方法中，在利用冷等离子体处理导入亲水性官能团后，通过附加实施或者将聚合物材料浸入一种有机溶剂中0.1至5分钟，或者用超声清洗设备清洗聚合物材料的步骤，可以更有效地为聚合物材料表面镀金属膜。按照本发明的镀膜方法非常稳定和容易实施，且可以为聚合物材料赋予其本身不具备的新特性，包括改善外观质量、改进机械性质、改进耐热性和耐用性、降低吸收性、赋予导热性及导电性、可焊接性和电磁波屏蔽效应等。按照本发明的镀膜方法镀膜后的聚合物材料，其性能得到改善，因此可以用于许多不同的工业领域，用来屏蔽信息处理设备所产生的电磁波，制作印刷电路板，制备各种类型的电极和抗静电板等。
  [HT5760-0119-0005] 具有优异端面绝缘的铁心和处理铁心端面以得到绝缘涂层的方法
[摘要] 本发明涉及一种在铁心端面上具有包含属于说明书限定为有机硅聚合物的纯有机硅聚合物、改性有机硅聚合物和/或混合有机硅聚合物的干燥的涂膜并具有至少0.5μm平均膜厚度、至少30V击穿电压和至少400℃空气中耐热性的绝缘涂层的一种铁心；和生产该铁心的方法，包括形成铁心，然后使用一种或多种的纯有机硅聚合物、改性有机硅聚合物和/或混合有机硅聚合物对铁心进行浸渍或喷涂处理。该铁心在绝缘性能、耐腐蚀性、涂层对基础磁铁的粘合性、耐热性和磁性的改进效果等方面极其优异，该方法使得在低温和短时间内进行铁心的绝缘处理，无需例如脱气、退火等的预处理。
  [HT5760-0108-0006] 带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置
[摘要] 本发明公开了一种带有磁铁的等离子体的连续蒸镀装置，包括工艺间、上部电极、下部电机、开卷机、卷绕机和N/S极磁铁。上部电极作为负极设置在工艺间的内部上侧；下部电极也作为负极，与上部电极保持一定间距设置在工艺间的下侧；开卷机设置在工艺间的一侧，开卷机上卷绕有带状材料，带状材料用于向上部电极和下部电极之间进行供应；卷绕机设置在工艺间的另外一侧，卷绕机用于卷绕经过上部电极和下部电极之间进行等离子体蒸镀之后的材料；N/S极磁铁交替设置在上部电极和下部电极的后面，利用产生的磁场提高反应气体的离子化率。增加了电子与反应气体之间的冲撞概率，提高了蒸镀效率。
  [HT5760-0082-0007] 金属氧硅化物的单源混合物
[摘要] 本发明涉及通式为M(L₁)_x(L₂)_v-x的络合混合物，其中M是2-6价金属，L1是阴离子配体，L2是适合生产金属硅酸盐稳定薄膜的氧硅化物或甲硅烷基酰胺配体，v等于金属的价数，0＜x＜v。所述连接使其分别存在M-O-Si或M-N-Si键，络合物的稳定性是由有机配体提供。本发明还涉及制备金属氧硅化物络合物的方法。因此，该络合物可用下式：(R)_mM-(O-Si R₁R₂R₃)_n和(R)_mM-[N-(SiR₁R₂R₃)_y(R₄)_2-y]_n表示。式中M是2-6价的金属，m和n是正整数，m+n等于金属M的价数。R型基团，即R、R₁、R₂、R₃和R₄是有机配体。
  [HT5760-0159-0008] 用于对金属带-尤其是钢板带进行浸镀的工艺和设备
[摘要] 本发明涉及一种用于在一箱体(11)内对金属带(1)执行连续热浸镀的方法，其中的箱体(11)中容纳有一种液态金属镀液(12)，该方法包括：连续地将金属带(1)松卷送入到一导管(13)中，导管的下部浸入到液态金属镀液(12)中，并利用所述镀液的液面形成一液封(14)；在将金属带(1)从液态金属镀液(12)中拉出的区域处，将一隔离腔(20)内的液态金属与所述镀液(12)的液面隔离开；通过使液态金属在所述区域与所述隔离腔(20)之间循环流动，而回收金属氧化物颗粒和金属间化合物颗粒；以及将所述颗粒从所述隔离腔(20)中提取出。本发明还涉及一种用于实施该方法的设备。
  [HT5760-0147-0009] Ag基合金薄膜及Ag基合金薄膜形成用溅射靶
[摘要] 本发明涉及Ag合金膜，尤其适合用于光信息记录介质领域中具有高导热系数、高反射率、高耐久性的光信息记录介质用反射膜和半透过反射膜、耐Ag凝集性优异的电磁波屏蔽用膜、反射型液晶显示元件等背面光反射膜。本发明Ag合金膜是由Bi和/或Sb合计含有0.005～10％(指原子％)的Ag合金膜构成。本发明进而涉及用于这种Ag合金膜的成膜的溅射靶。
  [HT5760-0109-0010] 等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置
[摘要] 本发明是提供一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，沿着带有喷射孔气体喷射管的一侧固定设置有保护盖；保护盖的端面呈半圆形。本发明的效果是通过在四角框形状的气体喷射管一侧固定设置保护盖，在上部电极和下部电极之间产生等离子体的区域内，保护盖阻断了蒸镀物质向气体喷射管接近，防止了蒸镀物质蒸镀在气体喷射管上的喷射孔上，于是即使连续进行蒸镀作业，也能够从气体喷射管均匀喷射出气体，能够确保均匀的蒸镀。
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