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[HT5757-0024-0001] TiN/SiO2纳米多层膜及其制备方法 [摘要] 一种TiN/SiO2超硬纳米多层膜及其制备工艺,属于陶瓷薄膜领域。TiN/SiO2高硬度纳米多层膜由TiN层和SiO2层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成,TiN层的厚度为2~9nm,SiO2层厚为0.45~1.2nm。本发明TiN/SiO2高硬度纳米多层膜的制作工艺是首先将金属或陶瓷基体的表面作镜面抛光处理,然后采用双靶射频溅射技术在基底上交替沉积TiN层和SiO2层得到TiN/SiO2高硬度纳米多层膜,其中TiN层和SiO2层材料由溅射靶材提供。本发明不但具有优良的高温抗氧化性,而且具有高的硬度;其硬度高于33GPa。最高硬度可达45GPa,最高弹性模量达460GPa。本发明作为高速切削刀具及其它在高温条件下服役耐磨工件的涂层,具有很高的应用价值。
[HT5757-0034-0002] 于工具上镀膜同时形成标记的方法 [摘要] 一种于工具上镀膜同时形成标记的方法,其是利用一具有镂空标记图案部位的附属套筒套接于欲镀膜的工具上,而使此工具欲进行镀膜的部位外露于此附属套筒外,再将此工具以套接有该附属套筒的一端套接至镀膜机台基座的主套筒上,并使该附属套筒镂空图案部位外露于该主套筒外,进行镀膜制程,此工具外露于附属套筒外的表面上,形成一薄膜,同时通过镂空的标记图案留下一标记于该工具上。通过本发明的方法可于进行镀膜时,同时产生标记于工具上,解决传统技术必须进行二次加工的麻烦,且可避免使用激光加工或腐蚀加工来产生标记而造成本体结构的损害。
[HT5757-0178-0003] 薄膜复合制备方法与装置 |