本实用新型公开了一种渗碳热处理用的一种多点式气体注入装置，包括炉体、风扇、气体注入管路，在搅拌风扇旁设有一或二支气氛注入管路，又在炉体的各个角落也设置了多支气氛注入管路，使注入的气氛均匀性好，制得的产品硬度及渗碳层均匀。
  [HT5753-0013-0004] 快速制备大面积均匀纳米功能膜的装置
[摘要] 快速制备大面积均匀纳米功能膜的装置，它是在真空罩的罩体上分别设有激光入射窗口、抽气口、红外光扩束窗口、充气窗口、靶体动力输入口、检验窗口、碘钨灯、观察窗口、靶体电极、衬底电极、衬底动力输入口，在对应靶体动力输入口和衬底动力输入口的罩体内分别设有靶体旋转装置和衬底旋转装置。它可快速制备大面积均匀纳米功能膜。
  [HT5753-0027-0005] 炉体回转式粉末渗锌设备
[摘要] 本实用新型提供一种炉体回转式粉末渗锌设备，包括渗锌炉、热风加热装置、渗锌缸及传动机构，其特点是：所述的渗锌缸置于圆筒状渗锌炉的热风加热腔体内，并固定连为一体，传动机构中的变速电机通过变速器及传动轮直接传动圆筒状渗锌炉外面的凸环或环状凹槽。其结构设计合理，传动稳定可靠，装卸料方便，适合加工2米以上的大工件，工件渗锌均匀，渗锌质量好，加工成本低，效率高，适用面广。
  [HT5753-0090-0006] 真空镀膜系统中真空室观察窗的转动档板
[摘要] 本实用新型涉及一种对真空镀膜系统中真空室观察窗的改进。包括基板10、观察孔11、转轮12、转动轮13、弹簧14、磁铁15和观察孔16，本实用新型解决原有的观察窗在蒸发不透光的材料时，开始能看清真空室内蒸发物的情况，逐渐就模糊，往往没有等到蒸发的膜达到要求的厚度时，就看不见真空室内部情况。而使用本实用新型的转动档板，就能解决频繁更换玻璃的问题，能够在操作设备时，更方便看清真空室内的情况，从而能提高蒸发器件的成品率。本实用新型提供一种结构简单、操作方便、蒸发器件的成品率高、能在真空镀膜时始终能观察到蒸发情况的真空室观察窗转动档板。
  [HT5753-0181-0007] 配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置
[摘要] 本实用新型涉及配屏幕电弧的多功能离子镀膜装置，安装在靶后的磁场强度大、小可调整，磁场强时按磁控溅射模式运行，磁场弱时按多弧模式运行。在矩形靶的前面，配置了覆盖整个矩形靶面面积的屏幕电弧，特别针对磁控溅射模式时，显著提高靶面附近的离化率。由于靶面积较大，沿矩形靶长边和短边作“跑道”形弧斑运动或起辉，产生的靶材离子在负偏压的作用下，按离子镀的定义沉积在工件上。
  [HT5753-0083-0008] 真空镀膜机循环装片装置
[摘要] 本实用新型公开了一种真空镀膜机循环装片装置，它包括镀膜箱体和高真空抽提装置，镀膜箱体的上部为主真空室，在主真空室内有物料装置、主烘烤盘，蒸发源，镀膜箱体的边侧有箱门，在箱门上做有一个付箱体，付箱体与付机械泵相接，在付箱体与镀膜箱体之间隔有付高阀，在付箱体内安装有工件送出装置、工件接收装置、预烘烤盘。将本实用新型用在镀膜机能上，可大幅降低生产成本，提高生产效率。
  [HT5753-0091-0009] 视线外磁过滤金属蒸气真空弧等离子体沉积源
[摘要] 一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源，采用磁过滤方法传输真空弧产生的等离子体到视线外的真空室中，从而消除液滴或颗粒到达处理工件导致镀层缺陷。为了得到高质量的沉积薄膜，过滤器管道内壁有特殊的凹槽设计以防止液滴或颗粒的反射，过滤器可串联。过滤器管道上加正偏压以提高过滤器的等离子体传输效率。同时在过滤器管道出口附加桶形磁场等离子体均化器。本实用新型适用于高光洁度、高密度、良好的薄膜与基体结合等高质量快速沉积薄膜。
  [HT5753-0132-0010] 电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统
[摘要] 本实用新型涉及一种电磁场约束电感耦合等离子体增强气相沉积薄膜系统，属于薄膜材料制备设备领域。该系统包括真空子系统(1)、溅射子系统(2)、气体混合及输入子系统(3)、等离子体辅助子系统(4)、电磁场约束子系统(5)、衬底加热及控温子系统(6)和衬底偏压子系统(7)组成；该系统能针对不同的薄膜材料体系、结构性能和应用目标，灵活又经济地改变或切换成膜技术和操作模式进行各种试验。
  [HT5753-0110-0011] 一种可控气体渗氮设备
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  [HT5753-0074-0035] 高速离心式功能材料成膜装置
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图[HT5753-0159-0096] 真空离子镀膜机

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