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[HT5752-0043-0001] 等离子体处理方法和设备
[摘要] 介绍了一种等离子体化学汽相淀积法和设备。该设备包括一真空室，真空室中设有两对电极。往其中一对电极加高频电压，以便在真空室中产生反应气体的等离子体。待涂敷的基片配置在另一对电极之间。往该另一对电极加频率较低的电压。借助于该低频电压，基片在淀积的过程中就受到等离子体的轰击。轰击的作用在于除去淀积材料较软的部分。
[HT5752-0162-0002] 以钛为主要成份的基质上的耐用镀层
[摘要] 一个在以钛为主要成分的基质上沉积耐用镀层的方法，该镀层可以由Ａｇ，或在由Ｃｒ，Ｎｉ，Ｃｏ构成的这一组材料中选择单一的或混合的，含有或不含有像ＳｉＣ，Ｃｒ2Ｃ3，Ａｌ2Ｏ3，Ｃｒ2Ｏ3这样的陶瓷微粒的物质组成。按照本发明，该方法由以下几步组成：$ａ）喷砂使基质粗糙化，$ｂ）经阴极溅射镍沉积而形成底层镍，$ｃ）中间阶段的洗涤，$ｄ）将部件浸入氰化浴进行活化，$ｅ）最外耐用镀层的沉积。
[HT5752-0022-0003] 硅钢片铁芯长期防锈工艺 |
